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熱門關(guān)鍵詞： 測角儀，應(yīng)力雙折射，折射率，薄膜弱吸收，反射率，GDD檢測設(shè)備，波片相位延遲，剪切
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雙折射（應(yīng)力）測量系統(tǒng) EXICOR-PV-Si還可測量藍(lán)寶石、碳化硅、硒鋅、鎘等材料。PV-Si鑄錠模型堅固、通用，可容納和測量直徑達(dá)8英寸的500毫米粗錠。
雙折射（應(yīng)力）測量系統(tǒng)-EXICOR OIA是透鏡、平行面光學(xué)、曲面光學(xué)在正常和斜入角度評估的主要雙折射測量系統(tǒng)。
雙折射（應(yīng)力）測量系統(tǒng) EXICOR-GEN，液晶基板應(yīng)力分布測量，大型液晶基板應(yīng)力分布測量，應(yīng)力測量。Hinds，Exicor GEN5， Exicor GEN6。
美國Hidns Instruemtns -LCD材料的超低階雙折射測量 在與眾多的光學(xué)材料制造商合作多年后，Hinds 儀器公司推出了Exicor 1500AT系統(tǒng)，用于測量大面積光學(xué)材料，如用于LCD（高達(dá)1500mm x 1500mm）的光學(xué)材料。 隨著液晶顯示器材料規(guī)格的成熟，專業(yè)化的系統(tǒng)已經(jīng)成為行業(yè)所需要的。Hinds現(xiàn)在提供從GEN5到GEN
該系統(tǒng)利用PEM調(diào)制光束的偏振狀態(tài)、先進(jìn)探測和解調(diào)電子來測量光學(xué)如何改變偏振狀態(tài)。這就導(dǎo)致了一個偏振狀態(tài)相對于另一個偏振狀態(tài)的光延遲測量結(jié)果是90°。利用這些數(shù)據(jù)可以對雙折射、快速軸向和理論殘余應(yīng)力測量進(jìn)行評估。在平板透鏡和己完成透鏡的研究和生產(chǎn)中， HindsInstruments和Exicor斜入射角技術(shù)被用于評估光學(xué)雙折射
150AT 應(yīng)力雙折射系統(tǒng)是Hinds應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)家族系列產(chǎn)品，用于殘余應(yīng)力檢測。該應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)既可作為實(shí)驗(yàn)室科研探索測量光學(xué)組件應(yīng)力分布測量，也可用作諸如玻璃面板，透鏡，晶體，單晶硅/多晶硅、注塑成品等工業(yè)生產(chǎn)中檢測產(chǎn)品應(yīng)力分布。產(chǎn)品軟件直觀顯示待測樣品應(yīng)力情況，便于操作和日常監(jiān)測。
美國Hinds Instruments 的Exicor®雙折射測量技術(shù)于1999年推出，型號為150AT，為客戶提供技術(shù)，具生產(chǎn)價值的測量雙折射的能力。Exicor系統(tǒng)的高靈敏度是Hinds Instruments的PEMLabs™技術(shù)的產(chǎn)品，該技術(shù)推出了超低雙折射光彈性調(diào)制器（PEM）。
應(yīng)力儀